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Numerical analysis of SPP maskless interference lithography system
ISSN号:1004-4213
期刊名称:Guangzi Xuebao/acta Photonica Sinica
时间:0
页码:558-564
相关项目:基于近场超级透镜的亚波长纳米光刻技术的研究
作者:
Qiming Dong|Xiaowei Guo|
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期刊信息
《光子学报》
中国科技核心期刊
主管单位:中国科学院
主办单位:中国光学学会 西安光机所
主编:侯洵
地址:西安市高新区新型工业园信息大道17号47分箱
邮编:710119
邮箱:photo@opt.cn
电话:029-88887564
国际标准刊号:ISSN:1004-4213
国内统一刊号:ISSN:61-1235/O4
邮发代号:52-105
获奖情况:
中文核心期刊,曾获中国光学学会先进期刊奖,中国科学院优秀期刊三等奖,陕西省国防期刊一等奖等
国内外数据库收录:
俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),波兰哥白尼索引,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
被引量:20700