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Xenon Discharge-Produced Plasma Radiation Source for EUV Lithography
  • ISSN号：0093-9994
  • 期刊名称：IEEE Transactions on Industry Applications
  • 时间：0
  • 页码：1661-1666
  • 相关项目：放电等离子体极紫外光刻光源关键物理及技术问题研究
作者： C. H. Zhang|H. Akiyama|P. Lv|Y. P. Zhao|Q. Wang|S. Katsuki|T. Namihira|H. Horta|H. Imamura|Y. Kondo|
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