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利用干涉光刻技术制备LED表面微纳结构
  • ISSN号:1000-7032
  • 期刊名称:《发光学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN383.1[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]天津工业大学电子与信息工程学院,天津300387, [2]天津市光电检测技术与系统重点实验室,天津300387, [3]中国科学院半导体研究所,北京100083
  • 相关基金:天津市自然科学基金(14JCQNJC01000); 国家自然科学基金(11404239,61575144,61504093); 集成光电子学国家重点联合实验室开放课题(IOSKL2014KF15)资助项目
中文摘要:

为了制备大面积周期性微纳米结构以提高LED的发光效率,建立了劳厄德(Lloyd)干涉光刻系统。简单分析了该干涉光刻系统的工作原理,并介绍了利用干涉曝光工艺制备一维光栅、二维点阵、孔阵列等纳米结构图形的具体实验过程。最后对纳米图形进行结构转移,制备出了金属纳米结构。实验结果表明:利用劳厄德干涉光刻系统,可以在20 mm×20 mm大小的ITO衬底上稳定制备出周期为450 nm的均匀光栅或二维点阵列图形结构,它们的占空比也是可以调节变化的。

英文摘要:

In order to realize the preparation of large-area periodic micro-nano structures to enhance the luminous efficiency of LEDs,Lloyd laser interference lithography( LIL) system was established.The working principle of LIL system was simply analyzed and the experimental process of preparing the one-dimensional gratings,two-dimensional lattice and hole arrays was introduced.Finally,the nano-structures were transferred into suitable functional substrates for further applications.The experimental results indicate that the uniform gratings or two-dimensional lattice arrays structures with the period of 450 nm,whose duty cycle can also be changed,are successfully fabricated on 20 mm ×20 mm ITO substrates by using the LIL system.

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期刊信息
  • 《发光学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会发光分会 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 主编:申德振
  • 地址:长春市东南湖大路3888号
  • 邮编:130033
  • 邮箱:fgxbt@126.com
  • 电话:0431-86176862
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-7032
  • 国内统一刊号:ISSN:22-1116/O4
  • 邮发代号:12-312
  • 获奖情况:
  • 物理学类核心期刊,2000年获中国科学院优秀期刊二等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:7320