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高阻半导体硅振动式深小孔放电加工研究
  • ISSN号:1004-132X
  • 期刊名称:中国机械工程
  • 时间:0
  • 页码:767-771
  • 分类:TG661[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
  • 作者机构:[1]南京航空航天大学,南京210016
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50975142); 江苏省科技支撑计划项目(BE2009161)
  • 相关项目:半导体材料特殊电特性下的随动进电电火花线切割研究
中文摘要:

开展了高阻半导体硅深小孔放电加工试验研究,通过在工件硅上附加机械振动,研究振幅和频率对其放电穿孔加工效率的影响规律。试验表明:随着振幅的增大,加工效率先增加后降低;随着频率的增加,加工效率逐渐提高。原因在于随着振幅的增大,极间冷却排屑效果改善,短路率下降,火花放电机率升高;但当振幅大于放电间隙时,硅与工具电极会产生直接撞击,火花放电机率下降。随着振动频率的增大,脉冲利用率升高。最后,对电阻率为2.1Ω.cm的P型半导体硅进行放电穿孔加工,实现了直径为0.3mm、深径比为25.3的深小孔的加工,并加工了边长为0.9mm的正三角形小孔。

英文摘要:

Micro-hole EDM technology on high resistance semiconductor silicon was carried out herein.Through attaching mechanical vibration to a piece of silicon,the efficiency of perforation under the conditions of different amplitudes and frequencies was studied.Experiments show that with the larger amplitude,EDM efficiency first increases and then reduces;as the frequency becomes larger,the efficiency of perforation improves gradually.The reasons are that:the larger amplitude,the better the chip removal,the lower the short-circuit rate,the higher the discharge rate.However,when the amplitude is greater than the discharge gap,the silicon hits with the tool electrode directly,the discharge rate declines.On the other hand,the larger the frequency,the higher the pulse utilization rate.At last,a hole whose diameter is 0.3mm and the ratio of depth to diameter is 25.3 and a equilateral triangle hole whose side is 0.9mm were achieved on P-type silicon whose resistivity is 2.1Ω · cm.

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期刊信息
  • 《中国机械工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国机械工程学会
  • 主编:董仕节
  • 地址:湖北工业大学772信箱
  • 邮编:430068
  • 邮箱:paper@cmemo.org.cn
  • 电话:027-87646802
  • 国际标准刊号:ISSN:1004-132X
  • 国内统一刊号:ISSN:42-1294/TH
  • 邮发代号:38-10
  • 获奖情况:
  • 1997年获中国科协期刊一等奖,第二届全国优秀科技...,机械行业优秀期刊一等奖,1999年获首届国家期刊奖,2001年获首届湖北十大名刊,中国期刊方阵“双高”期刊,2003第二届国家期刊奖提名奖,百种中国杰出学术期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:50788