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Si/SiC纳米复合薄膜退火工艺的控制
  • ISSN号:1002-4956
  • 期刊名称:《实验技术与管理》
  • 时间:0
  • 分类:TN304[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]天津大学材料与科学工程学院,天津300072
  • 相关基金:国家自然科学基金(50402010);天津市自然科学基金承点项目(0438007110).
中文摘要:

讨论了Si/SiC半导体纳米复合发光薄膜退火工艺的控制。半导体纳米复合发光薄膜的光致发光性能,直接受到退火工艺的影响和制约,退火后薄膜的组态及其元素的变化等因素,可能使得薄膜变成并不是所期望得到的结果。该文采用了在不同气氛、不同退火介质、不同放置方法等防氧化方法下进行退火,提高了退火可信度,使纳米复合薄膜的结果更可靠。

英文摘要:

This paper discussed the preparation and annealing technique of Si/SiC nano- composite thin films. The photoluminescence (PL) results are affected and confined by the annealing technique directly, The component and surface status of films of sputtered films after anneal would not be expected. By introducing several different annealing techniques, we clarify the best way of annealing to ensure the real property of nano- composite films.

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期刊信息
  • 《实验技术与管理》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:教育部
  • 主办单位:清华大学
  • 主编:李德华
  • 地址:北京清华大学科技服务楼
  • 邮编:100084
  • 邮箱:sjg@tsinghua.edu.cn
  • 电话:010-62783005 62797828
  • 国际标准刊号:ISSN:1002-4956
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2034/T
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 首届《CAJ-CD规范》执行优秀期刊奖,获两届中国高校优秀科技期刊奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),波兰哥白尼索引,美国剑桥科学文摘,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:46120