人类在二十一世纪将迎来光通讯时代,硅基发光材料与现有的半导体器件制造技术相容,是实现光电集成的关键材料,但硅的间接带隙能带结构使得这类材料发光效率低下。本项目计划通过获得异常结构的硅基发光材料改善其发光效率,主要内容包括三个部分(1)通过反应共沉积、激光处理和催化电化学的方法获得异常结构的硅量子点材料,并进行表面修饰,实现硅量子点由间接带隙向直接带隙的转变,从根本上提高发光效率。(2)利用先进的
硅基发光材料与现有的半导体器件制造技术相容,是实现光电集成的关键材料,但硅的间接带隙能带结构使得这类材料发光效率低下,本项目通过获得异常结构的硅基发光材料改善其发光效率,取得了显著的成果1)分别采用电子束辐照、偏压溅射和激光溅射的方式获得了面心立方结构的硅纳米晶,获得了增强的可见光发射,并深入探讨了奇异结构硅纳米晶的发光机理。同时利用反应溅射的方法获得了超细晶硅和良好的表面修饰,获得了硅的本征光发射。2)对多孔硅进行了表面改性处理,利用化学电化学两步法获得了表面Si-Ag键,利用磁控溅射获得了表面Si-Ti键,利用溶胶凝胶方法进行氧化硅的钝化,利用低能离子辐照生成Si-N键,这些表面改性措施均大幅度提高了发光性能。3)对电致发光器件进行了尝试,获得了带有硅连线的多孔硅,并或发明专利。4)对其他量子点发光材料进行了探索,获得蓝光发射的水溶性ZnO量子点,利用PMMA修饰ZnO量子点获得了本征发光,制备了ZnO纳米杯,研究了SiCN发光材料的结构和发光性能等。通过本项目的研究,阐明的硅量子点的奇异结构与其发光性能的关系,说明奇异结构硅基量子点是一种非常有潜力的发光材料。