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Non-uniformity emendation technique for amorphous silicon flat-panel detectors used for industrial X
  • ISSN号:0263-2241
  • 期刊名称:Measurement
  • 时间:0
  • 页码:817-822
  • 语言:英文
  • 相关项目:X射线三维CT成像理论及应用基础研究
作者: 韩焱|王晓|
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