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PLD方法制备CaCu3Ti4O12薄膜结构研究
  • ISSN号:1001-9731
  • 期刊名称:《功能材料》
  • 时间:0
  • 分类:TB43[一般工业技术]
  • 作者机构:[1]电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054
  • 相关基金:国家自然科学基金杰出青年资助项目(50425207);国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(51310Z03)
中文摘要:

采用脉冲激光沉积法(PLD)分别在LaAlO3(100)以及MgO(100)基片上,在不同的沉积温度下,制备具有体心立方类钙钛矿结构的CaCu3Ti4O12(CCTO)薄膜。在LAO基片上生长的CCTO薄膜,X射线衍射(XRD)分析表明沉积温度在680℃以上可以实现(400)取向生长,740℃薄膜可以实现cubic-on-cubic的方式外延生长。原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)分析分别显示CCTO薄膜的表面平整,界面清晰。后位的反射高能电子衍射(RHEED)观察到CCTO薄膜的电子衍射图谱,为点状。在MgO基片上,由于薄膜与基片较大的晶格失配,通过生长具有(100)和(110)取向的LaNiO3(LNO)缓冲层,诱导后续生长的CCTO薄膜随着温度的提高,由(220)取向生长转变成(220),(400)取向生长。

英文摘要:

Body centered cubic provskite-related CaCu3Ti4O12(CCTO)thin films were fabricated on LaAlO3(100) and MgO(100) single crystal substrates at different temperature by pulsed laser deposition (PLD), X-ray diffraction (XRD) scan indicated that (400)-oriented CCTO thin films were fabricated on LAO substrates above 680℃. Cubic-on-cubic epitaxial growth mode could be obtained at 740℃. Surface morphology of CCTO thin films was analyzed by atomic force microscopy (AFM). A sharp interface between the CCTO thin film and the LAO substrate can be demonstrated by scanning electric microscopy (SEM). The ex situ reflection high energy electric diffraction (RHEED) was used to get the electric diffraction pattern,which was spotty. Because of the high lattice mismatch between the MgO substrate and CCTO film,the buffer layer of (100) and (110)-oriented LNO was fabricated on MgO substrate. As the temperature increasing,CCTO films with (220) -oriented growth changed to (220) and (400)-oriented growth.

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期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编:黄伯云
  • 地址:重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编:400707
  • 邮箱:gnclwb@126.com
  • 电话:023-68264739
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9731
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30166