中文摘要：

TiZrV合金在180度下加热24小时即可激活，是目前发现的激活温度最低的NEG吸气剂，为此我们使用其作为镀膜材料。根据加速器管道镀膜的特点，采用双辅助真空室设计，建造了一台细长管道自体真空磁控溅射镀膜实验装置。用氩气作为放电气体进行溅射镀膜，在不锈钢管道内壁获得了高品质、均匀的TiZrV吸气薄膜。利用能量弥散X射线谱（EDX）和X射线光电子能谱（XPS）对薄膜组成成份进行测量分析，使用扫描电子显微镜（SEM）观察薄膜的表面形貌，使用X射线衍射仪（XRD）分析了薄膜的微观结构，另外还对不锈钢基体镀TiZrV膜前后的二次电子产额（SEY）进行了测量。测试结果表明TiZrV薄膜的成分比基本保持在30%Ti、30%Zr、40%V区间，即此吸气薄膜的"低激活温度区"内；TiZrV薄膜具有无定形的结构，由微小的纳米晶粒组成；镀有TiZrV薄膜的不锈钢样品，在加热激活TiZrV薄膜后，其二次电子产额有明显下降，峰值由2.03降到1.55，低于不锈钢和无氧铜材料。在此研究成果的基础上，我们设计建造了一台3000mm管道自体真空磁控溅射镀膜装置。