欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
立项数据库
> 立项详情页
原子层淀积高k/金属栅纳米叠层及功函数调制机理研究
项目名称: 原子层淀积高k/金属栅纳米叠层及功函数调制机理研究
批准号:861737
项目来源:2010年度上海市晨光计划项目
研究期限:2010-07-
项目负责人:孙清清
依托单位:复旦大学
批准年度:2010
孙清清的项目
新型低功耗电子器件
高k介质/拓扑绝缘体界面结构的物理和电学特性研究
期刊论文 1
原子层淀积栅介质/石墨烯纳米叠层的界面和电子结构
期刊论文 24
原子层淀积高k/金属栅纳米叠层及功函数调制机理研究