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稀土掺杂宽能隙III族氮化物薄膜的特性研究和应用探索
  • 项目名称:稀土掺杂宽能隙III族氮化物薄膜的特性研究和应用探索
  • 项目类别:重大研究计划
  • 批准号:90201029
  • 申请代码:F0509
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2003-01-01-2005-12-01
  • 项目负责人:吴嘉达
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:复旦大学
  • 批准年度:2002
中文摘要:

稀土掺杂材料是重要的光电子功能材料,稀土掺杂宽能隙III族氮化物具有更为优越的光电子特性。探索一种制备稀土掺杂III族氮化物薄膜的新方法,在材料制备的基础上,通过样品光发射特性的观察,特别是考察激励和弛豫的动态过程,探讨内在机制,了解基质材料的能隙宽度对发光特性的影响,探寻减小热淬灭、提高发光效率的途径,并进行材料的应用探索。

结论摘要:

英文主题词rare-earth doped material; wide-gap semiconductor; III-nitride; laser radiation; plasma


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
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  • 1
  • 0
  • 0
  • 0
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