结合电子回旋共振微波放电和脉冲激光烧蚀技术,摸索出一种常温制备化合物薄膜的新方法,并应用到纳米晶粒嵌镶膜的制备。分别以金属Al、多晶GaAs为原材料,在常温下制备得到AIN和GaN薄膜,能隙宽度分别为5.7和3.4eV。制备了纳米GaN嵌镶Al2O3薄膜和纳米GaN嵌镶AIN薄膜,GaN尺寸分布范围5-30nm,在Al2O3和AIN基质中GaN的浓度可在1-15%范围内调整。研究了AIN薄膜跨能隙脉冲光致发光及其时间特性,室温光发射范围325-550nm,观察到光发射的非指数衰减现象和氧杂质对光发射的影响。考察了不同温度下GaN薄膜和纳米GaN嵌镶AIN薄膜的连续光致发光,GaN薄膜低温光发射范围360-550nm,嵌镶膜光发射呈现近30nm的蓝移。已发表论文十二篇,国际会议展示三篇,获得一项上海市科技进步二等奖。
英文主题词nanocrystalline embedded thin film;III nitride; light emission ,