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纳米GaN嵌镶薄膜的光发射和光学非线性
  • 项目名称:纳米GaN嵌镶薄膜的光发射和光学非线性
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:69878004
  • 申请代码:F050906
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:1999-01-01-2001-12-01
  • 项目负责人:吴嘉达
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:复旦大学
  • 批准年度:1998
中文摘要:

结合电子回旋共振微波放电和脉冲激光烧蚀技术,摸索出一种常温制备化合物薄膜的新方法,并应用到纳米晶粒嵌镶膜的制备。分别以金属Al、多晶GaAs为原材料,在常温下制备得到AIN和GaN薄膜,能隙宽度分别为5.7和3.4eV。制备了纳米GaN嵌镶Al2O3薄膜和纳米GaN嵌镶AIN薄膜,GaN尺寸分布范围5-30nm,在Al2O3和AIN基质中GaN的浓度可在1-15%范围内调整。研究了AIN薄膜跨能隙脉冲光致发光及其时间特性,室温光发射范围325-550nm,观察到光发射的非指数衰减现象和氧杂质对光发射的影响。考察了不同温度下GaN薄膜和纳米GaN嵌镶AIN薄膜的连续光致发光,GaN薄膜低温光发射范围360-550nm,嵌镶膜光发射呈现近30nm的蓝移。已发表论文十二篇,国际会议展示三篇,获得一项上海市科技进步二等奖。

结论摘要:

英文主题词nanocrystalline embedded thin film;III nitride; light emission ,


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 12
  • 3
  • 0
  • 2
  • 0
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