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纳米级电子束直写曝光的基础工艺研究
项目名称:纳米级电子束直写曝光的基础工艺研究
项目类别:青年科学基金项目
批准号:69906006
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:刘明
依托单位:中国科学院微电子研究所
批准年度:1999
刘明的项目
100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键技术研究
期刊论文 23
会议论文 9
获奖 1
著作 2
基于Top-down的分子存储器的加工工艺研究
期刊论文 31
会议论文 13
专利 9
纳米电子束曝光的散射参数模型研究
期刊论文 7
新型微电子器件集成的基础研究
期刊论文 1
纳米加工与新型半导体器件研究
期刊论文 101
会议论文 13
获奖 2
专利 121
新型微电子器件集成的基础研究
期刊论文 98
会议论文 12
超高密度存储器三维集成关键技术研究
期刊论文 2