中文摘要：

本项目提出了一种基于纳米光栅偏振掩模和纳米光栅偏振相移掩模的分辨力增强新技术。拟运用理论分析、计算机仿真和对比光刻实验等方法研究纳米光栅掩模分辨力增强的机理。采用严格的耦合波计算理论，建立纳米光栅偏振掩模和纳米光栅偏振相移掩模的逆向设计方法，并设计出相应的光刻掩模；分析掩模的材料、掩模的三维形貌、特征尺寸的形状、吸收层的材料和厚度对各个衍射级的偏振性、衍射效率、光强分布的调制情况；研究纳米光栅偏振

结论摘要：

本项目提出了一种基于纳米光栅偏振掩模的分辨力增强新技术。采用理论分析、计算机仿真和对比光刻实验等方法研究了纳米光栅掩模分辨力增强的机理。采用严格的耦合波计算理论，建立纳米光栅偏振掩模的逆向设计方法，并设计出相应的光刻掩模展开了纳米光栅掩模技术的实验研究和与理论分析的对比，不仅能丰富分辨力增强技术理论，具有很高学术水平和学术意义，还将为我国研究纳米光刻技术打下理论和实践基础，对促进纳米科技发展具有实用价值。