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非平衡磁控溅射ICP增强电离会切磁场约束沉积技术
  • 项目名称：非平衡磁控溅射ICP增强电离会切磁场约束沉积技术
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：50277003
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：任春生
  • 依托单位：大连理工大学
  • 批准年度：2002
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 4
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期刊论文
射频等离子体增强非平衡磁控溅射沉积技术
高密度等离子体增强非平衡磁控溅射沉积Cu膜研究
Cu Films Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering Enhanced by ICP and External Magnetic Field Confinement
Optical Emission Spectroscopic Studies of ICP Ar Plasma
任春生的项目
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