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Cu Films Deposited by Unbalanced Magnetron Sputtering Enhanced by ICP and External Magnetic Field Confinement
  • ISSN号：1009-0630
  • 期刊名称：《等离子体科学与技术：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O53[理学—等离子体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]State Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams,Dalian University of Technology, Dalian 116024, China
  • 相关基金：supported by National Natural Science Foundation of China （Nos. 50277003, 10505005）
作者： 齐雪莲[1], 任春生[1], 马腾才[1], 王友年[1]
关键词： 铜, 等离子体, 磁控溅射技术, 磁场, 射电频率, unbalanced magnetron sputtering, radio-frequency, magnetic field, Cu film
中文摘要：

E-mail address of QI Xuelian： xuelian1023@yahoo.com.cn

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期刊信息
  • 《等离子体科学与技术：英文版》
  • 主管单位:中国科学院 中国科协
  • 主办单位:中国科学院等离子体物理研究所 中国力学学会
  • 主编：万元熙、谢纪康
  • 地址：合肥市1126信箱
  • 邮编：230031
  • 邮箱：pst@ipp.ac.cn
  • 电话：0551-5591617 5591388
  • 国际标准刊号：ISSN：1009-0630
  • 国内统一刊号：ISSN：34-1187/TL
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引（扩展库）,英国科学文摘数据库
  • 被引量:89