欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
立项数据库
> 立项详情页
氮化镓基发光二极管中V坑空穴注入的研究
项目名称:氮化镓基发光二极管中V坑空穴注入的研究
项目类别:面上项目
批准号:11674147
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:全知觉
依托单位:南昌大学
批准年度:2016
全知觉的项目
氮化鎵基发光二极管中V型缺陷的作用研究
GaN基蓝光LED内量子效率的温度droop效应研究
期刊论文 10