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SnS薄膜的掺杂改性及其在太阳电池上的应用
  • 项目名称:SnS薄膜的掺杂改性及其在太阳电池上的应用
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:61076063
  • 申请代码:F040306
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2011-01-01-2013-12-31
  • 项目负责人:程树英
  • 负责人职称:教授
  • 依托单位:福州大学
  • 批准年度:2010
中文摘要:

硫化亚锡(SnS)具有禁带宽度合适、光电转换效率高、吸收系数大、价廉、毒性小等特点,适合于作为太阳能电池的吸收层。但是,非掺杂的SnS薄膜的半导体特性不够理想,如载流子浓度偏低,电阻率偏大,等等。为了改善其半导体特性,本项目拟用脉冲电沉积法在FTO透明导电玻璃基片上制备掺杂(如分别掺杂Ag、Cu、In等)的SnS薄膜。深入研究薄膜的制备条件、掺杂元素和浓度对其光电性能的影响,探索制备理想的p型SnS薄膜的最佳工艺以及掺杂元素和条件。用第一性原理研究SnS薄膜中的缺陷、掺杂元素和剂量对SnS薄膜的能带结构和光电性能的影响,为SnS薄膜的掺杂设计和制备提供理论依据。制备出吸收系数大、能带间隙合适、载流子浓度大、电阻率低的掺杂的p型SnS薄膜,为研制新型的SnS薄膜太阳能电池奠定基础。研究结果在新型光电功能材料、新材料设计、新型半导体材料、光电子器件等相关领域也具有重要的科学意义。

结论摘要:

为了改善SnS薄膜的光电特性,本项目采用真空蒸发法制备了掺杂的SnS薄膜,掺杂源分别为铝、铜、银和铟。通过改变不同掺杂源的掺杂浓度(0 at.%~15at.%),研究掺杂源和掺杂浓度对SnS薄膜的物相、结构、形貌和光电性能的影响,制备出了光电性能良好的掺杂的SnS薄膜。研制了SnS薄膜太阳电池的窗口层材料,如ITO薄膜、CdS薄膜、ZnS薄膜、In2S3薄膜等,并初步研制出了效率为0.0025%、结构为Glass/ITO/CdS/SnS/Ag的薄膜太阳电池。发表论文10篇,申请专利3件,培养研究生4人,出席国内和国际重要学术会议10人次。具体结果如下 1)所制备的掺杂SnS薄膜表面致密,厚度均匀,附着力较好;不同掺杂源条件下制备的掺杂SnS薄膜主要成分仍为正交结构的SnS,且沿(111)晶面择优生长,结晶性较好。铝和银掺杂未产生新的物相,均以间隙式掺杂为主,一定的掺杂还有助于改善薄膜的结晶度。铜掺杂是以替位式为主,当掺杂浓度为15 at.%时,会引入新的物相Sn2S3。铟掺杂容易产生严重的晶格畸变,同时生成新的物相SnS2和In5S4。 2)掺杂对SnS薄膜的禁带宽度有明显的影响。铝和银掺杂由于间隙式掺杂引入了局域能级,SnS薄膜的禁带宽度(Eg)随着掺杂浓度的增加而减小(SnS:Al的Eg =1.5 eV~1.29 eV 和SnS:Ag的Eg=1.5 eV~1.32 eV);而铜和铟掺杂由于引入了新的物相,导致薄膜的禁带宽度先减小后增加。所有掺杂的样品,其吸收系数都大于1.5×104 cm-1,满足太阳能电池吸收层的要求。 3)掺杂可改善SnS薄膜的半导体特性。掺杂的SnS薄膜均为p型导电类型,掺杂有助于提高载流子的浓度,降低电阻率; 其中,铝掺杂的效果最好,当其浓度为15 at.%时,SnS:Al薄膜的电阻率和迁移率分别为4.55 Ω?cm和5.10 cm2?v-1?s-1。 4)利用最优掺杂的SnS:Al薄膜,制备出了结构为GLS/ITO/CdS/SnS/Ag的薄膜太阳电池,在AM1.5光照(100 mW/cm2)下测得开路电压为87 mV,短路电流密度为0.095 mA/cm2;最大功率为0.002 mW,填充因子为0.3,光电转换效率为0.0025%。上述结果为进一步提高SnS薄膜太阳电池效率奠定了较好的基础。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 12
  • 5
  • 0
  • 0
  • 0
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