位置：立项数据库 > 立项详情页
超低损耗激光薄膜基础理论与关键技术研究
  • 项目名称：超低损耗激光薄膜基础理论与关键技术研究
  • 项目类别：重点项目
  • 批准号：61235011
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：季一勤
  • 依托单位：中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所
  • 批准年度：2012
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 21
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
期刊论文
非绝热近场光学诱导平滑硅表面微结构的电场模拟
铥激光器腔镜用高损伤阈值氧化物薄膜的研制
HfO2薄膜折射率非均质性生长特性研究
浦江一号卫星星敏感器在轨测量精度分析
具有亚表面损伤层基底表面的激光减反膜设计
不同工艺制备的人工节瘤的损伤生长特性
毫米波在SiO2基底材料中的传播特性
偏振分光膜中节瘤的激光损伤特性
离子束溅射制备氧化物薄膜沉积速率调整方法
热处理对低损耗高反膜特性的影响分析
热处理对离子束溅射SiO_2薄膜结构特性的影响分析
光学表面功率谱密度的表征
宽带啁啾镜的制备及其损伤特性研究
SiO2薄膜TO与LO振动模式的数值研究
SiO2薄膜红外波段介电常数谱的高斯振子模型研究
周期结构薄膜在折射率色散下反射区特性研究
Si02薄膜内部短程有序微结构研究
离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性
离子束溅射制备SiO_2薄膜的折射率与应力调整
金属氧化物薄膜光学常数计算物理模型应用研究
热处理对离子束溅射Ta2O5薄膜特性的影响
季一勤的项目
　红外光学参量振荡器(OPO)的光学薄膜关键技术研究
　红外光学参量振荡器(OPO)的光学薄膜关键技术研究
　二氧化硅光学薄膜材料
　二氧化硅光学薄膜材料