中文摘要：

研究用于高线密度（线宽小于0.2微米）自支撑透射光栅制作的干涉光刻、同步辐射X射线光刻、离子束刻蚀和微电镀等微细加工工艺。重点对光栅制作过程中出现的种种问题如光栅质量波动很大以及周期误差、不均匀性、光栅线条弯曲等进行理论分析，找出原因及解决途径。 自支撑金透射光栅是极紫外（EUV）和X射线波段重要的色散元件之一，已广泛地应用于激光惯性约束核聚变等离子体诊断、X射线激光实验诊断和天体物理学等领域的光谱测量。目前只有美、德、俄、日等国少数实验室可以制作，该项技术一直为他们所垄断。

结论摘要：

高线密度自支撑金透射光栅是极紫外和X射线波段重要的色散元件之一，已广泛地应用于激光惯性约束聚变等离子体诊断、X射线激光实验诊断和天体物理学领域的光谱测量。目前只有美、德、俄、日等国少数实验室可以制作，该项技术一直为他们所垄断。 该项基金的研究目标是探索高线密度自支撑金透射光栅超微细加工技术。在基金的资助下，本项研究取得如下主要成果1>探索出一套高线密度自支撑金透射光栅的曝光干涉系统理论分析方案；2>研究出一套高线密度自支撑金透射光栅制备工艺,光栅掩模线密度最大已达3500线/mm；3>研究出一套光栅检测分析技术.该项研究必将促进我国的光栅制作水平，为核科学、空间科学、军事科学的进一步发展提供重要的技术支持。