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Broaden buried oxide layer of
  • 所属机构名称：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：低剂量注氧隔离技术氧化埋层形成机理研究
作者： Jing Chen*, Yemin Dong, Xiang
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低剂量注氧隔离技术氧化埋层形成机理研究
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