位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Research on nitrogen implantat
  • 所属机构名称：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：低剂量注氧隔离技术氧化埋层形成机理研究
作者： E. X. Zhang*, J. Y. Sun, J. Ch
同会议论文项目
低剂量注氧隔离技术氧化埋层形成机理研究
期刊论文 17 会议论文 8 获奖 2
同项目会议论文
Formation of thicker buried ox
Research on the formation of t
引入离子缺陷对SIMOX材料中埋层
Broaden buried oxide layer of
SIMOX-SOI材料的Pseudo-MOS表征
Research on ion implantation e
The formation of sub-micro par