欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
会议
> 会议详情页
离化增强的脉冲阴极弧沉积TiCN薄膜结构和性能研究
所属机构名称:哈尔滨工业大学
会议名称:第十二届国际真空冶金与表面工程学术会议
时间:2015.8.25
成果类型:会议
相关项目:空心阴极放电自诱导电子加速效应及深熔焊接研究
同会议论文项目
空心阴极放电自诱导电子加速效应及深熔焊接研究
期刊论文 25
会议论文 18
专利 2
同项目会议论文
Hybrid HIPIMS power supply and plasma ion implantation and deposition
(优秀论文)一种新型双脉冲磁控溅射放特性
(优秀论文)TiN涂层9Cr18轴承钢强流脉冲电子束表面辐照过程电子行为及温度场数值模拟研究
Hybrid Power Supply and Plasma Discharge for Tribologicaland Protective Coatings
Research on mode transition characteristics of hollow cathode RF-arc in vacuum
高密度等离子体
High density plasmafor hardcoating based on high power impulse
如何从电源控制上提高PVD镀层质量和工艺窗口
邀请报告 Smart and flexible power supplies for PVD coatings
(会议共同主席)第二届高离化率磁控多弧放电与应用技术研讨会
Magnetically enhanced Hipims
HigherIonization and Deposition Rate of High Power Impulse Magnetron SputteringAssisted by External
中频脉冲磁控溅射制备CrC/a-C:H结构及性能的影响
电场增强阴极弧放电特性及TiCrN薄膜组织性能研究
Electric-field Enhanced Arc Deposition of TiCrN Coatings
大会报告 物理气相沉积(PVD)镀膜电源技术及创新思考
大会报告 PVD硬质薄膜的膜层质量与稳定性控制因素:工件偏压