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工艺公差对阵列波导光栅波分复用器性能的影响
  • 期刊名称:半导体学报, 27(5), pp 926-931, 2006/5.
  • 时间:0
  • 分类:TN256[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室,长春130012, [2]吉林师范大学,四平136000
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(批准号:60576045)
  • 相关项目:聚合物阵列波导光栅波分复用器带宽平坦性和热稳定性的研究
中文摘要:

依据阵列波导光栅(AWG)的传输理论,分析了工艺公差对硅基聚合物AWG波分复用器性能的影响,分析结果表明,工艺公差将引起AWG传输光谱的漂移,并使串扰增大,为了实现AWG器件正常的解复用功能,我们对AWG工艺公差的累积和补偿效应进行了讨论。

英文摘要:

The effects of manufacturing tolerances on transmission characteristics are analyzed for a 33×33 polymer arrayed waveguide grating (AWG) multiplexer via transmission theory. Simulated results show that manufacturing tolerances result in a shift of the transmission spectrum and in the increase of the crosstalk compared with theoretical device. The accumulation and compensation of manufacturing tolerances are investigated. In order to realize the normal demultiplexing for a fabricated AWG device, some allowed manufacturing, tolerances are discussed.

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