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Effects of Parameters in Femtosecond Laser Micromachining on Ablation of Silicon
  • ISSN号：1006-4982
  • 期刊名称：《天津大学学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TN304.12[电子电信—物理电子学] TG665[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
  • 作者机构：State Key Laboratory of Precision Measuring Technology and Instruments, Tianjin University, Tianjin 300072, China
  • 相关基金：Supported by National High Technology Research and Development Program of China （ ＂863＂ Program） （No. 2006AA04Z327）, National Natural Science Foundation of China （No.60372006）, and Program for New Century Excellent Talents in University.
作者： 陈治, 傅星, 耿娜, 胡小唐
关键词： 激光微加工, 硅表面, 飞秒, 影响参数, 脉冲持续时间, 扫描电子显微镜, 原子力显微镜, 烧蚀阈值, femtosecond pulse laser, microstructure machining, silicon, ablation threshold, incubation effect
中文摘要：

CHEN Zhi, born in 1977, male, Dr, lecturer. Correspondence to HU Xiaotang, E-mail： xthu@tju.edu.cn.

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期刊信息
  • 《天津大学学报：英文版》
  • 主管单位:中华人民共和国教育部
  • 主办单位:天津大学
  • 主编：龚克
  • 地址：天津市南开区卫津路92号天津大学第19教学桉东配楼
  • 邮编：300072
  • 邮箱：trans@tju.edu.cn
  • 电话：022-27400281
  • 国际标准刊号：ISSN：1006-4982
  • 国内统一刊号：ISSN：12-1248/T
  • 邮发代号:6-128
  • 获奖情况:
  • 天津市一级期刊,被国内外十余家检索机构收录
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,英国英国皇家化学学会文摘
  • 被引量:153