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沉积参数对CVD金刚石晶粒尺寸的影响
  • ISSN号：1674-4926
  • 期刊名称：《半导体学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TN304.055[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083 北京科技大学,北京,100083
  • 相关基金：国家高技术研究发展计划(批准号:2002AA305508),国家自然科学基金(批准号:50472095),教育部留学基金(批准号:2003-14),北京科技新星计划(批准号:2003A13)和北京市自然科学基金(批准号:2062015)资助项目
作者： 陈广超[1], 兰昊[1], 李彬[1], 戴风伟[1], Askari, J, 黑立富[1], 宋建华[1], 李成名[1], 唐伟忠[1], 佟玉梅[1], 吕反修[1]
关键词： 金刚石, 晶粒尺寸, 等离子体喷射CVD
中文摘要：

采用DC Arc Plasma Jet CVD方法制备了金刚石自支撑膜体,考察了温度分布、沉积腔压和CH4/H2等沉积参数对所制备金刚石膜体中的晶粒尺寸的影响.实验发现沿温度降低的方向和增加腔压会使晶粒尺寸变大,当CH4/H2超过15%后,有带刻面的晶粒出现.本次实验最大的晶粒对角线长度超过1mm.

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期刊信息
  • 《半导体学报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编：李树深
  • 地址：北京912信箱
  • 邮编：100083
  • 邮箱：cjs@semi.ac.cn
  • 电话：010-82304277
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-4926
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:7754