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OES study of the gas phase during diamond films deposition in high power DC arc plasma jet CVD system
  • ISSN号：1674-1056
  • 期刊名称：《中国物理B：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O484[理学—固体物理;理学—物理] TP6[自动化与计算机技术—控制科学与工程;自动化与计算机技术—控制理论与控制工程]
  • 作者机构：[1]School of Materials Science and Engineering, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China
  • 相关基金：Project supported by the Key Research Project of Chinese Hi-Tech （Grant No 2002AA305508）; the National Natural Science Foundation of China （Grant No 50472095）; SRF for R0CS, SEM （Grant No 2003-14） and Beijing Novel Project （Grant No 2003A13）.
作者： 周祖源[1], 陈广超[1], 唐伟忠[1], 吕反修[1]
关键词： 气相, OES, 金刚石薄膜, 等离子射流, gas phase, OES, diamond film, high power DC arc plasma jet CVD
中文摘要：

Corresponding author. E-mail： zuyuanzhou@163.com

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期刊信息
  • 《中国物理B：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
  • 主编：欧阳钟灿
  • 地址：北京 中关村 中国科学院物理研究所内
  • 邮编：100080
  • 邮箱：
  • 电话：010-82649026 82649519
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-1056
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5639/O4
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:406