位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Preparation of nano-Si/SiNx film and its application in passive Q-switch of Nd∶YAG laser
  • ISSN号：1001-3806
  • 期刊名称：激光技术
  • 时间：0
  • 页码：163-165
  • 语言：中文
  • 相关项目：纳米Si-SiNx复合薄膜和Si/SiNx多量子阱材料制备和非线性光学性质研究
作者： Lu，Peng, Guo,Heng-qun, Wang, Jia-xian, Li, Li-wei,|
同期刊论文项目
纳米Si-SiNx复合薄膜和Si/SiNx多量子阱材料制备和非线性光学性质研究
期刊论文 19
同项目期刊论文
Passive mode-locking in Nd:YAG laser using nanocrystalline silicon embedded in SiNx film
Preparation and photoluminescent properties of Si-rich silicon nitride thin films
Preparation and Photoluminescence Properties of Nanocrystalline Si Embedded in SiN Thin Films
Highly efficient green top-emitting organic light-emitting devices with metal electrode structure
Optical properties of a-Si/a-SiNx superlattice
Study on the Third-Order Nonlinear Enhancement of SiN Films
Passive mode-locking in Nd:YAG laser using semiconductor quantum-well films
Si／SiNx超晶格材料的非线性光学特性
nc-Si／SiNx超晶格薄膜实现Nd：YAG激光器调Q和锁模
富硅氮化硅薄膜的制备及其发光特性
纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备与光致发光特性
掺Al富Si／SiO2薄膜制备及紫外发光特性研究
纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究
纳米Si镶嵌SiNx薄膜实现Nd：YAG激光器被动锁模
Z扫描法研究nc-Si／SiNx多量子阱材料非线性光学特性
SiN薄膜三阶非线性增强的研究
全数字锁相环高频感应加热系统的设计
OFDM系统中64点FFT的FPGA设计
期刊信息
  • 《激光技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国兵器工业总公司
  • 主办单位:西南技术物理研究所
  • 主编：侯天晋
  • 地址：成都市武侯区人民南路4段7号
  • 邮编：610041
  • 邮箱：jgjs@sina.com
  • 电话：028-68011091
  • 国际标准刊号：ISSN：1001-3806
  • 国内统一刊号：ISSN：51-1125/TN
  • 邮发代号:62-74
  • 获奖情况:
  • 2008年获得中国兵器集团公司优秀科技期刊二等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,波兰哥白尼索引,荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:6642