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Thermal Stress in Free-standing Diamond Films with Cr Interlayer Destroyed
  • 期刊名称：Journal of Materials Science & Technology
  • 时间：0
  • 页码：991-995
  • 语言：英文
  • 分类：TQ164.8[化学工程—高温制品工业] TN304.18[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：School of Materials Science and Engineering, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China
  • 相关基金：Acknowledgement This work was supported by the National Natural Science Foundation of China （Grant No. 50471090）.
  • 相关项目：单晶CVD金刚石生长过程中形貌不稳定的控制研究
作者： Weizhong Tang |Guangchao Chen|Chengming Li|Fanxiu Lv|Lifu Hei|Zheng Liu|
关键词： 金刚石薄膜, 热应力, 直流电弧等离子体喷射, 铬层, 层间, 化学气相沉积系统, 化学气相沉积法, 自由站, CVD diamond film, Cr interlayer, Thermal stress, Finite element analysis
中文摘要：

Corresponding author. Prof.; Tel.： ＋86 10 62332475; Fax： ＋86 10 62332336; E-mail address： chengmli@mater.ustb.edu.cn （C.M. Li）.

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