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抛光对化学气相沉积金刚石自支撑膜断裂强度的影响
  • ISSN号:1001-4012
  • 期刊名称:《理化检验:物理分册》
  • 时间:0
  • 分类:TB43[一般工业技术]
  • 作者机构:[1]北京科技大学材料学院,北京100083
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50471090)
中文摘要:

研究了抛光对化学气相沉积金刚石自支撑膜断裂强度的影响。结果表明,金刚石自支撑膜粗糙表面所带来的V形缺口会降低其断裂强度,而且随着膜厚的增加,降低的程度越明显,通过抛光粗糙表面,消除了V形缺口对断裂强度的影响,有利于提高金刚石膜的抗破坏能力。提出了一种金刚石膜断裂强度的经验计算方法,获得的断裂强度值更接近于金刚石膜的本征断裂强度。

英文摘要:

The effect of polishing on fracture strength of free-standing CVD diamond films was investigated. Results indicate that the fracture strength of diamond films was reduced by the V shapes induced by the rough surface. The thicker the fihns were the more rapidly the fracture strength declined. Erasing the rough surface by polishing can improve the fracture strength of thick diamond films efficiently. An experimental calculation method was suggested, which can get the fracture strength of freestanding CVD diamond films closed to the essential strength.

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期刊信息
  • 《理化检验:物理分册》
  • 主管单位:上海科学院
  • 主办单位:上海材料研究所
  • 主编:李和平
  • 地址:上海市邯郸路99号
  • 邮编:200347
  • 邮箱:pt@mat-test.com
  • 电话:021-65556775-361 021-65547443
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-4012
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1338/TB
  • 邮发代号:4-183
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版)
  • 被引量:6057