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升温速率对Bi0.98La0.02FeO3-PbTiO3薄膜结构性能的影响
  • ISSN号:1001-2028
  • 期刊名称:电子元件与材料
  • 时间:0
  • 页码:1-4
  • 语言:中文
  • 分类:TM27[电气工程—电工理论与新技术;一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]四川大学材料科学与工程学院,四川成都610064
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(No.60771016)
  • 相关项目:具有谐振腔结构的磁电复合薄膜的制备及其磁电效应研究
中文摘要:

采用sol-gel法在SiO2/Si(100)衬底上制备了0.68(Bi0.98La0.02)FeO3-0.32PbTiO3(BLFPT)薄膜。采用快速退火技术,以2~40℃/s速率升温、在700℃下保温100s对BLFPT薄膜进行了后续处理。研究了升温速率对BLFPT薄膜结构性能的影响。XRD测试结果显示BLFPT薄膜为赝立方结构。SEM和AFM结果表明,当升温速率为2℃/s时,BLFPT薄膜表面晶粒更为均匀致密,粗糙度最小。XPS分析显示,Bi、Fe和Ti分别主要以化合态Bi2O3、Fe2O3和TiO2的形式存在。

英文摘要:

0.68(Bi0.98La0.02)FeO3-PbTiO3(BLFPT) films were prepared on SiO2/Si(100) substrates by the sol-gel method. The BLFPT films were annealed by rapid thermal annealing (RTA) process at 700℃ for 100 s and the heating rates were 2-40℃/s. The effect of different heating rates on the BLFPT films annealed by RTA was investigated. The XRD patterns of BLFPT films show that the structure of the films is the pseudo-cubic structure. The SEM and AFM analyses show that the grains of BLFPT films appear more uniformity and dense, and the surface roughness is the smallest value when the heating rate is 2 ℃/s. The XPS analysis shows that the valence states of Bi, Fe and Ti elements of BLFPT films exist mainly in the form of Bi2O3, Fe2O3 and TiO2, respectively.

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期刊信息
  • 《电子元件与材料》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中华人民共和国工业和信息化部
  • 主办单位:中国电子学会 中国电子元件行业协会 国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
  • 主编:陈 丰
  • 地址:成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
  • 邮编:610051
  • 邮箱:journalecm@163.com
  • 电话:028-84391569
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-2028
  • 国内统一刊号:ISSN:51-1241/TN
  • 邮发代号:62-36
  • 获奖情况:
  • 第二届全国优秀期刊评比二等奖,第二届国家期刊奖...
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:8585