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硅基MEMS红外光源热稳定性测试研究
  • ISSN号:1001-8891
  • 期刊名称:《红外技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN212[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中北大学电子测试技术国防重点实验室、仪器科学与动态测试教育部重点实验室,山西太原030051
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目,编号:51275492; 中国博士后科学基金特别资助项目,编号:2013T60557;中国博士后科学基金面上资助项目,编号:2012T52118; 江苏省博士后科研资助计划项目,编号:1201038C
中文摘要:

光电标识是完成识别和搜救任务的"眼睛"。作为"眼睛"核心组成器件,MEMS红外光源的工作稳定性对标识效果具有最直接的影响,而MEMS红外光源的工作稳定性取决于辐射薄膜的热稳定性,表现为辐射体薄膜结构工作电阻的动态变化趋势。为此通过开展MEMS红外光源电阻特性研究对于深入探索光电标识装置的标识特性意义重大。采用阻抗分析仪进行测试,结果表明MEMS红外光源长时间工作下其本征电阻值变化量仅为0.4%,热稳定性良好;在可承受驱动电压范围内,光源的动态电阻随电压的变化无明显偏移,薄膜表面形貌变化正常,MEMS红外光源整体结构工作稳定。

英文摘要:

Photoelectric identification is the eye of the recognition and search and rescue mission. As the core of the eye, the working stability of MEMS infrared light source has the most direct effects on identification effect, and the working stability of MEMS infrared light source depends on the thermal stability of the film,that is, the dynamic variation of the film working resistance. Therefore research on MEMS infrared light source resistance characteristics to explore the photoelectric device identification features is of great significance. Test results of using impedance analyzer show that the MEMS infrared light intrinsic resistance variation is only 0.4% under long hours work, which means good thermal stability. In the sustainable driving voltage range, the dynamic resistance of the source has no obvious change with the voltage offset. The morphology change of thin film surface is normal, and the integral structure of the MEMS infrared source is stable.

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期刊信息
  • 《红外技术》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国兵器工业集团公司
  • 主办单位:昆明物理研究所 中国兵工学会夜视技术专业委员会 微光夜视技术重点实验室
  • 主编:苏君红
  • 地址:昆明市教场东路31号
  • 邮编:650223
  • 邮箱:irtek@china.com
  • 电话:0871-5105248
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-8891
  • 国内统一刊号:ISSN:53-1053/TN
  • 邮发代号:64-26
  • 获奖情况:
  • 2006兵器集团一等奖,2004、2009年云南省优秀期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 荷兰文摘与引文数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:8096