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Theoretical analysis of ion kinetic energies and DLC film deposition by CH4＋ Ar （He） dielectric barrier discharge plasmas
  • ISSN号：1674-1056
  • 期刊名称：《中国物理B：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O46[理学—电子物理学;理学—物理] O47[理学—半导体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]State Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Dedian University of Technology, Dedian 116024, China, [2]Department of Mathematic and Physics, Dalian Nationality University, Dalian 116600, China
  • 相关基金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China （Grant No 10405005）.
作者： 刘艳红[1], 张家良[1], 马腾才[1], 李建[1], 刘东平[2]
关键词： 离子能量, 电子绝缘体, 电子流量, 金刚石, ion energy, dielectric barrier discharge, diamond-like carbon deposition
中文摘要：

E-maih dbd01@dlut.edu.cn

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期刊信息
  • 《中国物理B：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
  • 主编：欧阳钟灿
  • 地址：北京 中关村 中国科学院物理研究所内
  • 邮编：100080
  • 邮箱：
  • 电话：010-82649026 82649519
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-1056
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5639/O4
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  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:406