利用介质阻挡放电沉积薄膜具有放电装置简单,能耗低,气体流量小,可在多种基底上大面积、高气压成膜等优势。自二十世纪九十年代以来,该方法已日益被众多的研究者所重视。我们在国际上首次利用低气压辉光介质阻挡放电在室温下多种基底上制备硬度高达20GPa的DLC薄膜。在此工作基础上优化薄膜沉积条件,系统研究各种放电参数(如电源频率、电压波形、电源电压、电极结构等)及气体组成对薄膜特性的影响,探索在短间隙大气压
利用介质阻挡放电沉积薄膜具有放电装置简单,能耗低,气体流量小,可实现在多种基底上大面积、高气压成膜等优势。自二十世纪九十年代以来,该方法已日益被众多的研究者所重视。在此项目资助基础上,我们利用辉光介质阻挡放电在室温下多种基底上制备DLC薄膜、氟碳薄膜、二氧化硅薄膜、非晶碳氮薄膜等。并优化薄膜沉积条件,系统研究各种放电参数(如电源频率、放电电压等)及气体组成对薄膜特性的影响,探索在短间隙大气压下利用辉光介质阻挡放电制备均匀硬质薄膜。同时,针对该方法的优势,在绝缘介质表面沉积类金刚石薄膜;在玻璃、纸张上制备大面积疏水性氟碳薄膜,开展应用性研究。对脉冲辉光放电形成过程及等离子体鞘层活性物种种类、能量及密度进行模拟,结合对薄膜在原子水平上的分析结果,研究薄膜的低能沉积和高能溅射过程,分析薄膜沉积机理。