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熔石英后表面坑点型划痕对光场调制的近场模拟
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:《物理学报》
  • 时间:0
  • 分类:O433.54[机械工程—光学工程;理学—光学;理学—物理]
  • 作者机构:[1]电子科技大学物理电子学院,成都610054, [2]中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳621900
  • 相关基金:国家自然科学基金青年科学基金(批准号:10904008);国家自然科学基金委员会-中国工程物理研究院联合基金(批准号:11076008);中央高等学校基本科研基金(批准号:ZYGX2009X007,ZYGX2010J045,ZYGX2011J043)资助的课题
中文摘要:

建立了坑点型划痕的旋转抛物面模型,用三维时域有限差分方法研究了熔石英后表面坑点型划痕随深度、宽度、间距以及酸蚀量变化对波长λ=355 nm入射激光的调制.研究表明,这类划痕调制最强区位于相邻两坑点的连接区,且越靠近表面调制越强.当其宽深比为2.0—3.5、坑点间距约为坑点宽度的1/2时,可获得最大光场调制,最大光强增强因子(LIEF)为11.53;当坑点间距大于坑点宽度时,其调制大为减弱,相当于单坑的场调制.对宽为60δ(δ=λ/12),深和间距均为30δ的坑点型划痕进行刻蚀模拟,刻蚀过程中最大LIEF为11.0,当间距小于300 nm时,相邻坑点由于衍射形成场贯通.

英文摘要:

Rotating paraboloid model is establishd,and three-dimensional finite-difference time-domain method is used to simulate pitshaped cracks on fused silica rear-surface.The light intensification with its depth,width,gap distance and etch value are investigated under 355 nm laser incident.Results show that the strongest modulation is located at the connection area between pit and pit,and the modulation become strong with approaching to the surface.The maximum light intensity enhancement factor(LIEF) is 11.53 when the breadth depth ratio ranges from 2.0 to 3.5 and gap distance close to 1/2 width.As gap distance greater than the width,the modulation reduces greatly,which is equal to a single pit.For 60δ-width,30δ-depth and 30δ-gap distance cracks,the maximum LIEF is 11.0 during the acid etching.As the gap distance is less than 300 nm,the diffraction of the light field makes the neighbor pits connective.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876