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退火温度对P离子注入TiO2薄膜材料物理与生物学性能的影响

ISSN号：1001-9731
期刊名称：《功能材料》
时间：0
分类：TN304.2[电子电信—物理电子学]
作者机构：[1]西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031 西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031
相关基金：国家自然科学基金(NSFC)项目(30370407 30300087)国家重点基础研究规划项目(G1999064706)

中文摘要：

利用离子注入技术在TiO2薄膜中注入P元素,然后分别在不同温度进行退火处理,得到一系列钛氧化物掺杂材料.随着退火温度的上升,P注入的TiO2薄膜材料电阻降低,与水的接触角在70度左右波动.通过LDH及血小板粘附实验,发现高温退火样品的血液相容性得到改善.

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