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纳米结构CeO_2薄膜的阳极电沉积及腐蚀行为的研究现状
  • ISSN号:1002-6495
  • 期刊名称:《腐蚀科学与防护技术》
  • 时间:0
  • 分类:TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理;金属学及工艺—金属学]
  • 作者机构:[1]浙江大学化学系,杭州310027, [2]中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110016
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50771092)
中文摘要:

综述了暗态和光照条件下纳米结构CeO2薄膜的阳极电沉积工艺和机理的研究现状:在暗态条件下,CeO2薄膜的阳极电沉积过程遵循所谓的"碱化电沉积"机理;在光照的条件下,光生空穴加速了CeO2薄膜的阳极电沉积过程.本文同时指出了目前研究的不足之处:现有研究尚未对纳米结构CeO2薄膜的阳极电沉积行为及其腐蚀机理、电沉积电化学特征与薄膜结构和性能的关系等进行详细的探讨,光生电子对CeO2薄膜生长的影响尚未涉及.

英文摘要:

The current situation of study on the anodic electrodeposition and corrosion behavior of nano-crystalline CeO2 thin films is reviewed in this paper.Under dark situation,the anodic deposition of nanostructured CeO2 thin films follows the so-called "base generation electrochemical deposition" mechanism;under illumination conditions,the photoinduced holes(n-type) accelerate the anodic deposition process.Meanwhile,the deficiencies of the existed studies are also pointed out:few literatures dealt with the mechanism of electrodeposition and corrosion behavior,especially the relationship of the performance with the structure of the electrodeposited nano-crystalline CeO2 thin films.Besides,the effect of the electrons(p-type)produced photochemically on the growth of CeO2 thin films has not yet been investigated.

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期刊信息
  • 《腐蚀科学与防护技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学院金属研究所
  • 主编:王福会
  • 地址:沈阳市文化路72号中国科学院金属研究所
  • 邮编:110016
  • 邮箱:cspt@imr.ac.cn
  • 电话:024-23971819
  • 国际标准刊号:ISSN:1002-6495
  • 国内统一刊号:ISSN:21-1264/TQ
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国自然科学核心期刊,中国科技论文统计用刊,入编中国科学引文索引
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:9973