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中文摘要：
联合采用电化学噪声（EN）、电化学阻抗（EIS）和电化学扫描探针显微技术（SECM、ECSTM）等，深入研究纳米结构Ni基－(TiN、SiC、Si3N4)复合薄膜的初始"成核/生长"机理及添加相纳米粒子对薄膜电沉积机理（包括Ni的欠电势沉积）和薄膜微观结构的影响机制；探明目前国内外学术界在"纳米结构复合薄膜的成膜机理、添加相纳米粒子对纳米结构复合薄膜的成膜机理的影响机制"及"纳米结构复合薄膜的腐蚀行为"研究中存在分歧的原因；同时建立纳米结构复合薄膜的电沉积理论模型。在上述研究的基础上，采用电化学噪声、ECSTM和EIS等技术研究Ni基纳米结构复合薄膜的腐蚀机理，重点查明薄膜中添加相米粒子对薄膜腐蚀电化学行为的影响机制，并建立纳米结构复合薄膜的腐蚀电化学模型。项目不仅为Ni基纳米结构复合薄膜的工业开发和应用提供了基础，而且丰富了纳米电化学理论；因此具有重要的实际意义和理论价值
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