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系统级封装中穿透性硅通孔建模及分析
  • 期刊名称:北京信息科技大学学报
  • 时间:0
  • 页码:15-19
  • 分类:TN454[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构:[1]北京信息科技大学信息微系统研究所,北京100101, [2]北京大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室,北京100871
  • 相关基金:中国国家高技术研究发展计划项目(863计划,2007AA04Z352);国家自然科学基金项目(60976083,60501007);北京市自然科学基金项目(3102014);北京邮电大学泛网无线通信教育部重点实验室项目(KFKT-2010101)
  • 相关项目:嵌入低温共烧陶瓷多层封装基板的微机械太赫兹波导、波导元件及其工艺研究
作者: 缪旻|
中文摘要:

针对系统级封装技术(SIP,system in package)详细分析了穿透性硅通孔(TSV,through silicon via)的半径、高度和绝缘层厚度等物理结构对于三维系统级封装传输性能的影响,提出了TSV吉赫兹带宽等效电路模型,并提取出其电阻、电容、电感等无源元件值,对于所提出的电路模型进行了时域分析,仿真给出了眼图。

英文摘要:

The impact of physical configurations such as through silicon via (TSV) radius, TSV height and thickness of SiO2 on the transmission performance of system in package (SIP) is explored. A gigahertz equivalent circuit model of TSV in 3D Integrated Circuits is proposed and the values of passive elements within the model are extracted from full-wave scattering parameters. The proposed circuit model is analyzed in time domain, and the eye-diagram is shown based on the proposed circuit model.

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