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Surface oxidation of vanadium dioxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering
  • ISSN号：1674-1056
  • 期刊名称：《中国物理B：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O484[理学—固体物理;理学—物理] TN305.92[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]College of Science, China AgriculturM University, Beijing 100083, China, [2]School of Science, Beijing Jiaotong University, Beijing 100044, China, [3]Laboratory of Optical Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China
  • 相关基金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China （Grant No 60776039） and China Agricultural University Foundation （Grant No 2007037）. Acknowledgement One of the authors （Wang X J） wants to thank all the members of the ESCA laboratory from Chinese University of Hong Kong, where the XPS spectra were recorded.
作者： 王学进[1], 梁春军[2], 管康萍[2], 李德华[3], 聂玉昕[3], 朱世秋[1], 黄峰[1], 张葳葳[1], 成正维[2]
关键词： 表面氧化, 二氧化钒, 薄膜, 射线频率, 磁控管溅射, surface oxidation, vanadium dioxide, films, magnetron sputtering
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期刊信息
  • 《中国物理B：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
  • 主编：欧阳钟灿
  • 地址：北京 中关村 中国科学院物理研究所内
  • 邮编：100080
  • 邮箱：
  • 电话：010-82649026 82649519
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-1056
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5639/O4
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  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:406