欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
SiGe/Si HBT异质结界面与PN结界面对位置的影响
期刊名称:电子学报
时间:0
页码:2000.Vol.28,No.8
语言:中文
相关项目:器件质量SiGe应变层的生长及超高频低噪声HBT和IC的研制
作者:
徐晨,陈建新等|
同期刊论文项目
器件质量SiGe应变层的生长及超高频低噪声HBT和IC的研制
期刊论文 4
同项目期刊论文
SiGe/Si HBT发射结的寄生势垒及其对器件室温和低温特性的影响
低温SiGe/Si HBT的研制及性能分析
GSMBE生长的用于研制HBT的SiGe/Si异质结材料