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Boron-doped silicon film as a recombination layer in the tunnel junction of a tandem solar cell
  • ISSN号：1674-4926
  • 期刊名称：《半导体学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TN304.12[电子电信—物理电子学] O511[理学—低温物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]Key Laboratory of Semiconductor Materials Science, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China
  • 相关基金：Project supported by the State Key Development Program for Basic Research of China （No. 2006CB202604）, the National Natural Science Foundation of China （No. 60576036）, and the National High Technology Research and Development Program of China （No. 2006AA05Z405）.Acknowledgement The authors wish to acknowledge Professor Guanglin Kong for helpful discussions.
作者： 石明吉, 王占国, 刘石勇, 彭文博, 肖海波, 张长沙, 曾湘波
关键词： 硅薄膜, 隧道结, 等离子体增强化学气相沉积, 太阳能电池, 重组, 串联, 掺硼, 原子力显微镜, PECVD, boron-doping, tunnel junction, recombination rate, rectification
中文摘要：

Corresponding author. Email： shimingji06@semi.ac.cn

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期刊信息
  • 《半导体学报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编：李树深
  • 地址：北京912信箱
  • 邮编：100083
  • 邮箱：cjs@semi.ac.cn
  • 电话：010-82304277
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-4926
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:7754