欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Heavily carbon-doped p-type GaAsSb grown by gas source molecular beam epitaxy
ISSN号:0253-4177
期刊名称:半导体学报
时间:0
页码:1765-1768
语言:中文
相关项目:InP基RTD/HBT量子单片微波集成电路关键技术研究
作者:
Qi, Ming|Xu, Anhuai|Ai, Likun|Sun, Hao|Zhu, Fuying|
同期刊论文项目
InP基RTD/HBT量子单片微波集成电路关键技术研究
期刊论文 8
会议论文 3
同项目期刊论文
InP基RTD特性数值模拟研究
Study on InP/InGaAs/InP DHBT structure with step-graded composite collector
GaAs/InGaP异质界面的湿法腐蚀
重碳掺杂P型GaAsSb的GSMBE生长及其特性
新结构InGaP/GaAs/InGaPDHBT生长及特性研究
InP基RTD特性的数值模拟研究
带有阶梯缓变集电区的InP/InGaAs/InP DHBT材料研究