位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
InP基RTD特性的数值模拟研究
  • ISSN号:1000-3819
  • 期刊名称:《固体电子学研究与进展》
  • 时间:0
  • 分类:TN313[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海200050, [2]信息功能材料国家重点实验室,上海200050, [3]中国科学院研究生院,北京100039
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(60676062)
中文摘要:

采用基于非平衡格林函数法(Non-equilibrium Green’s function,NEGF)量子输运模拟器WinGreen对InP基共振隧穿二极管(RTD)的输运特性进行了计算模拟,分析了Ga0.47In0.53As/AlAs以及富In组份势阱双势垒结构几何参数、散射参数、发射区和集电区掺杂浓度以及隔离层厚度对InP基RTD器件I-V特性的影响。模拟结果表明,采用富In组份的势阱有利于降低峰值电压,提高发射区掺杂浓度有利于增大峰值电流密度,而散射则会导致谷值电流增大,影响其负阻特性。

英文摘要:

The numerical simulation is carried out to investigate the transport characteristics of the InP-base resonant tunneling diode (RTD). The non-equilibrium Green' s function (NEGF) based on quantum transport simulator WinGreen is used. The effects of geometric parameter of Ga0.47In0.53As/AlAs and In-rich quantum well double barrier structures, scattering parameter, doping level in emitter and collector, spacer width on I-V characteristics of the RTD are analyzed and discussed. The results show that using In-rich quantum well structure and raising doping level in emitter are propitious to lower peak voltage and improve peak current density respectively, while scattering can affect the negative resistance characteristics by increasing valley current.

同期刊论文项目
同项目期刊论文
期刊信息
  • 《固体电子学研究与进展》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:南京电子器件研究所
  • 主编:杨乃彬
  • 地址:南京中山东路524号(南京160信箱43分箱)
  • 邮编:210016
  • 邮箱:gtdz@chinajournal.net.cn
  • 电话:025-86858161
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3819
  • 国内统一刊号:ISSN:32-1110/TN
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵双效期刊,江苏省第六届优秀期刊,工信部09-10年期刊编辑质量优秀奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:2461