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An efficient dose-compensation method for proximity effect correction
  • ISSN号：1674-4926
  • 期刊名称：《半导体学报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TN305.7[电子电信—物理电子学] Q963[生物学—昆虫学]
  • 作者机构：[1]Research Center of Semiconductor Integrated Technology, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China, [2]State Key Laboratory for Superlattices and Microstruetures, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences Beijing 100083, China
  • 相关基金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China（Nos.60506017 60776059）; the National High Technology Research and Development Program of China（No.2007AA03Z303）.
作者： 王颖[1], 韩伟华[1], 杨香[1], 张仁平[2], 张杨[1], 杨富华[1,2]
关键词： 剂量补偿, 补偿方法, 邻近效应, 校正, 晶体结构, 电子束光刻, 加速电压, 基体材料, proximity effect, electron beam lithography, photonic crystal structure, compensated dose factor
中文摘要：

Corresponding author. Email： wangying@semi.ac.cn

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期刊信息
  • 《半导体学报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编：李树深
  • 地址：北京912信箱
  • 邮编：100083
  • 邮箱：cjs@semi.ac.cn
  • 电话：010-82304277
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-4926
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:7754