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放电功率对VHF-PECVD沉积微晶硅薄膜的生长特性的仿真模拟
  • ISSN号：1672-7126
  • 期刊名称：真空科学与技术学报
  • 时间：2014
  • 页码：91-95
  • 相关项目：甚高频高速沉积微晶硅薄膜生长特性的研究
作者： 陈喜平|陈永生|李新利|郝秀利|卢景霄|
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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
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  • 国际标准刊号：ISSN：1672-7126
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  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:4421