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Low-temperature synthesis of nitride films by ECR plasma aided reactive pulsed laser deposition
  • 期刊名称:J. Korean Vac. Soc.
  • 时间:0
  • 作者或编辑:3448
  • 第一作者所属机构:复旦大学
  • 页码:2000,19 (S1). 127-134
  • 语言:英文
  • 相关项目:微波放电和激光烧蚀混合等离子体的特性和应用
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