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An All Solid-State Pulsed Power Generator for Plasma Immersion Ion Implantation (PIII)
  • ISSN号：1009-0630
  • 期刊名称：Plasma Science & Technology
  • 时间：0
  • 页码：220-224
  • 语言：英文
  • 分类：TN78[电子电信—电路与系统] O53[理学—等离子体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]Institute of Electric Light Sources, Fudan University, Shanghai 200433, China
  • 相关基金：supported by National Natural Science Foundation of China （Nos. 50437020, 10675049）Acknowledgements The authors would like to thank Prof. LIANG Rongqing and WU Xiaojing of Fudan University, Shanghai, China, for their help in this work.
  • 相关项目：纳秒脉冲介质阻挡放电等离子体特性研究
作者： Qiu Jian|Wu Yifan|Liu Kefu|
关键词： 等离子体浸没离子注入, 脉冲功率, 发生器, 全固态, 等离子体离子注入, 脉冲宽度调制, 脉冲重复频率, plasma, immersion ion implantation, pulsed power, Marx generator, semicon- ductor switches
中文摘要：

E-mail address of LIU Kefu： kfliu@fudan.edu.cn

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期刊信息
  • 《等离子体科学与技术：英文版》
  • 主管单位:中国科学院 中国科协
  • 主办单位:中国科学院等离子体物理研究所 中国力学学会
  • 主编：万元熙、谢纪康
  • 地址：合肥市1126信箱
  • 邮编：230031
  • 邮箱：pst@ipp.ac.cn
  • 电话：0551-5591617 5591388
  • 国际标准刊号：ISSN：1009-0630
  • 国内统一刊号：ISSN：34-1187/TL
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