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Inductively coupled plasma chemical vapor deposition silicon nitride for passivation of In0.83Ga0.17
  • ISSN号:1350-4495
  • 期刊名称:Infrared Physics & Technology
  • 时间:2014.11
  • 页码:197-201
  • 相关项目:集成金属人工结构偏振的新型近红外探测器及其光电耦合机理
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