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MOCVD生长GaAsP/GaInP量子阱材料的发光特性
  • ISSN号:0258-7025
  • 期刊名称:中国激光
  • 时间:2014
  • 页码:162-165
  • 分类:TM304.054[电气工程—电机]
  • 作者机构:[1]长春理工大学,吉林长春1300222, [2]艾强上海贸易有限公司,上海200052
  • 相关基金:国家自然科学基金(60976038,61107054)、吉林省科技发展计划项目(20100419)和高功率半导体激光国家重点实验室基金
  • 相关项目:非对称异质结构1060nm半导体激光器
中文摘要:

通过利用低压金属有机物化学气相沉积技术,在不同偏向角的GaAs衬底上生长了GaAsP/GaInP量子阱外延层结构。通过对样品室温光致发光测试结果的分析,讨论了势垒层生长温度、势阱层V/Ⅲ比以及衬底偏向角对外延片发光波长、发光强度及半峰全宽的影响。发现在相同生长条件下,势垒层低温生长的量子阱发光更强;降低势阱层V/Ⅲ比可以增加样品的发光强度,同时发光的峰值波长会出现红移。相同生长条件下,样品的发光强度会随其衬底偏向角的增加而增强,半峰全宽随其衬底偏向角的增大而减小。

英文摘要:

GaAsP/GalnP quantum wells are grown on different misoriented substrates by low pressure_metal-organic chemical vapor deposition (LP_MOCVD) technique. The samples are characterized via photo luminescence (PL) spectroscopy at room temperature. The effect of the growing temperature of barrier layer, V/Ill ratio of quantum well layer and offcut substrate to emitting wavelength, PL intensity and full-width at half-maximum (FWHM) is discussed. Samples with lower barrier growing temperature shows higher PL intensity. The PL intensity will increase when the V/HI ratio of quantum well layer decreases, and the PL peak exhibits a red shift at the same time. Samples grown on substrate (100) oriented 15 off towards 〈111 〉 exhibit the highest PL intensity and narrowest FWHM.

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期刊信息
  • 《中国激光》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国光学学会 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 主编:周炳琨
  • 地址:上海市嘉定区清河路390号
  • 邮编:201800
  • 邮箱:cjl@siom.ac.cn
  • 电话:021-69917051
  • 国际标准刊号:ISSN:0258-7025
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1339/TN
  • 邮发代号:4-201
  • 获奖情况:
  • 中国自然科学核心期刊,物理学类核心期刊,无线电子学·电信技术类核心期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:26849